膜厚測定

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蛍光X線式測定器XDV®-μ WAFER

FISCHERSCOPE<sup>®</sup> X-RAY XDV<sup>®</sup>-μ WAFER

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-μ WAFER

ポリキャピラリーレンズを搭載し、ウェハーの膜厚測定と素材分析を自動測定できるよう特別設計された高性能蛍光X線式測定装置です。

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特長

  • ウェハーの膜厚測定と素材分析を自動測定できるよう特別設計されたモデル
  • 革新的なポリキャピラリ―レンズを搭載し、非常に小さな測定スポットにおいて大きな励起強度を得ることが可能

主な仕様

ポリキャピラリーレンズを搭載し、ウェハーの膜厚測定と素材分析を自動測定できるよう特別設計された高性能蛍光X線式測定装置です。

型式 XDV-μ WAFER
測定元素範囲 Al(13)~U(92)
X線検出器 シリコンドリフト検出器(SDD)
X線管球 マイクロフォーカスチューブ
プライマリフィルター 4種類(切替式)
X線光学系 ポリキャピラリーレンズ Φ20µm (オプション Φ10µm)
本体寸法 680 x 900 x 690mm (幅 x 奥行 x 高さ)
ウェハーサイズ 6, 8, 12インチに対応
消費電力 最大120W

主な用途

  • エレクトロニクス産業や半導体産業などのウェハーの測定(ウェハーサイズΦ300mmまで測定可能)
  • 薄膜コーティングの分析 0.1µm以下のAuやPd
  • 品質管理等における自動測定
  • 多層膜コーティングの測定

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